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Maskless photolithography for micro- and nanofabrication
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Material complementario disponible Artículo DOAJ
Maskless photolithography for micro- and nanofabrication
Ziyi Cheng et al · Springer Nature Singapore · 2026 · ISSN 2097-616X
Abstract As a micro- and nanofabrication technique, maskless photolithography (MPL) eliminates static physical masks and instead utilizes computer-controlled light sources and optical systems to directly generate pattern...
LCC TENDOkVsZWN0cmljIGFwcGFyYXR1cyBhbmQgbWF0ZXJpYWxzLiBFbGVjdHJpYyBjaXJjdWl0cy4gRWxlY3RyaWMgbmV0d29ya3M~Idioma eng
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