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Plasma-enhanced chemical vapor deposited films on aluminum nanoparticles for enhanced oxidative heat release, extended shelf life, and better dispersion stability
Artículo
Acceso abierto Artículo DOAJ
Plasma-enhanced chemical vapor deposited films on aluminum nanoparticles for enhanced oxidative heat release, extended shelf life, and better dispersion stability
Prawal P.K. Agarwal et al · KeAi Communications Co. Ltd · 2026 · ISSN 2667-1344
This study explores the use of Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) to apply coatings from six different organic precursors onto aluminum nanoparticles (Al NPs). The goal is to improve their energetic perfor...
LCC TENDOkV4cGxvc2l2ZXMgYW5kIHB5cm90ZWNobmljcw~~Idioma eng
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