Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung
Waldbaur, Ansgar · KIT Scientific Publishing
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Waldbaur, A. (s. f.). Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung. KIT Scientific Publishing. https://nodovox.com/record.php?id=154728
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Waldbaur, A. s. f, Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung, KIT Scientific Publishing, available at: https://nodovox.com/record.php?id=154728 [Accessed 7 Aug. 2026].
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- Titolo
- Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung
- Autore / collaboratori
- Waldbaur, Ansgar
- Editore
- KIT Scientific Publishing
- ISBN
- 9783731501190