Análisis de riesgo por exposición a arsénico procedente de procesos industriales ubicados en la Bahía de Quinteros, mediante un modelo de dispersión

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Análisis de riesgo por exposición a arsénico procedente de procesos industriales ubicados en la Bahía de Quinteros, mediante un modelo de dispersión

Aguirre González, Francisco Javier · Universidad de Santiago de Chile · 2010

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Autor / responsable

Aguirre González, Francisco Javier

Editorial

Universidad de Santiago de Chile

Año

2010

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Aguirre González, F. J. (2010). Análisis de riesgo por exposición a arsénico procedente de procesos industriales ubicados en la Bahía de Quinteros, mediante un modelo de dispersión. Universidad de Santiago de Chile. https://nodovox.com/record.php?id=407502

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Aguirre González, Francisco Javier. Análisis de riesgo por exposición a arsénico procedente de procesos industriales ubicados en la Bahía de Quinteros, mediante un modelo de dispersión. Universidad de Santiago de Chile, 2010. https://nodovox.com/record.php?id=407502.

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Aguirre González, F. J. 2010, Análisis de riesgo por exposición a arsénico procedente de procesos industriales ubicados en la Bahía de Quinteros, mediante un modelo de dispersión, Universidad de Santiago de Chile, available at: https://nodovox.com/record.php?id=407502 [Accessed 3 Jul. 2026].

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Título: Análisis de riesgo por exposición a arsénico procedente de procesos industriales ubicados en la Bahía de Quinteros, mediante un modelo de dispersión

Autor / colaboradores: Aguirre González, Francisco Javier

Editorial: Universidad de Santiago de Chile

Año de publicación: 2010

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