Zurück zu den Ergebnissen
Bibliografischer Datensatz · Ansicht und Zugriff
Artículo

Effect of Pulse Current on Interface Microstructure and Bonding Properties of TA1/304 Double-Layer Clad plates

Xiongwei Guo et al · KeAi Communications Co., Ltd · 2024

Open Access verfügbar
Schnellübersicht. Prüfen Sie die grundlegenden Angaben und öffnen Sie den Inhalt über die Hauptschaltfläche. Die Seite zeigt nur die Informationen, die zum Identifizieren, Zitieren und Öffnen des Werks nötig sind.

Zugriff auf die Ressource

Öffnen Sie den Inhalt über die Hauptoption oder wählen Sie eine andere verfügbare Quelle.

DOAJ DOAJ Articles
Entrar por DOAJ
Hauptzugriff

Open Access verfügbar

Recurso identificado como acceso abierto, sin confirmar automáticamente si es texto completo directo.
Ressource öffnen

Übersicht

Descripción general del contenido del recurso.

Abstract It is difficult to effectively improve the low bonding strength of TA1/304 clad plates. This study proposes a new process for applying pulse current (1500 A, 500 Hz, 50% duty cycle) to TA1/304 clad plates during the rolling process, which changes the interface microstructure and effectively improves the bonding strength of the clad plates. The influence of the pulsed current on the interface microstructure and bonding strength was systematically studied. The results indicate that the clad plate is initially bonded at 750 °C and 35% reduction ratio under electrically-assisted rolling (EAR), and finally the higher bonding strength is obtained at 850 °C and 48% reduction ratio, reaching 395 MPa. The strengthening of the interface element diffusion and grain refinement under the action of the pulsed current are important reasons for the improvement in the bonding strength of the clad plate. This discovery provides new ideas for the preparation of clad plates with high bonding performance.

Zitieren

Elegí el formato que necesitás y copiá la referencia al portapapeles.

APA 7

al, X. G. E. (2024). Effect of Pulse Current on Interface Microstructure and Bonding Properties of TA1/304 Double-Layer Clad plates. https://doi.org/10.1186/s10033-024-01097-3

MLA

al, Xiongwei Guo et. "Effect of Pulse Current on Interface Microstructure and Bonding Properties of TA1/304 Double-Layer Clad plates." 2024. https://doi.org/10.1186/s10033-024-01097-3.

Chicago

al, Xiongwei Guo et. 2024. "Effect of Pulse Current on Interface Microstructure and Bonding Properties of TA1/304 Double-Layer Clad plates.". https://doi.org/10.1186/s10033-024-01097-3.

Harvard

al, X. G. E. 2024, Effect of Pulse Current on Interface Microstructure and Bonding Properties of TA1/304 Double-Layer Clad plates, KeAi Communications Co, Ltd, available at: https://doi.org/10.1186/s10033-024-01097-3 [Accessed 6 Aug. 2026].

Teilen und drucken

Speichern Sie den Datensatz, kopieren Sie den Permalink oder drucken Sie ihn als PDF.

Referenz exportieren

Exportieren Sie den Datensatz in gängigen Formaten für Literaturverwaltungsprogramme.

Ressourcendetails

Bibliografische Angaben zur Prüfung, ob es sich um das richtige Material handelt.

Titel
Effect of Pulse Current on Interface Microstructure and Bonding Properties of TA1/304 Double-Layer Clad plates
Autor / Mitwirkende
Xiongwei Guo et al
Verlag
KeAi Communications Co., Ltd
Erscheinungsjahr
2024
ISSN
2192-8258
ISSN
2192-8258
Sprache
Inglés

Schlagwörter

Entdecken Sie über diese Schlagwörter weitere verwandte Ressourcen.

Kopiert