Effect of Pulse Current on Interface Microstructure and Bonding Properties of TA1/304 Double-Layer Clad plates
Xiongwei Guo et al · KeAi Communications Co., Ltd · 2024
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al, X. G. E. (2024). Effect of Pulse Current on Interface Microstructure and Bonding Properties of TA1/304 Double-Layer Clad plates. https://doi.org/10.1186/s10033-024-01097-3
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al, Xiongwei Guo et. "Effect of Pulse Current on Interface Microstructure and Bonding Properties of TA1/304 Double-Layer Clad plates." 2024. https://doi.org/10.1186/s10033-024-01097-3.
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al, Xiongwei Guo et. 2024. "Effect of Pulse Current on Interface Microstructure and Bonding Properties of TA1/304 Double-Layer Clad plates.". https://doi.org/10.1186/s10033-024-01097-3.
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al, X. G. E. 2024, Effect of Pulse Current on Interface Microstructure and Bonding Properties of TA1/304 Double-Layer Clad plates, KeAi Communications Co, Ltd, available at: https://doi.org/10.1186/s10033-024-01097-3 [Accessed 8 Aug. 2026].
Dettagli della risorsa
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- Titolo
- Effect of Pulse Current on Interface Microstructure and Bonding Properties of TA1/304 Double-Layer Clad plates
- Autore / collaboratori
- Xiongwei Guo et al
- Editore
- KeAi Communications Co., Ltd
- Anno di pubblicazione
- 2024
- ISSN
- 2192-8258
- ISSN
- 2192-8258
- Lingua
- Inglés
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