Volver a resultados
Ficha bibliográfica · Consulta y acceso
Artículo

Establishing exhaustive metasurface robustness against fabrication uncertainties through deep learning

Jenkins Ronald P. et al · Wiley · 2021

Material complementario disponible
Lectura rápida. Revisá los datos básicos del recurso y luego accedé al contenido desde el botón principal. En esta ficha solo se muestra la información necesaria para identificar la obra, citarla y abrirla.
Publicación seriada

3-D near-field imaging of guided modes in nanophotonic waveguides

Esta publicación seriada contiene 146 contenidos relacionados.

Acceso al recurso

Entrá al contenido desde la opción principal o elegí otra fuente disponible.

DOAJ DOAJ Articles
Entrar por DOAJ
Acceso principal

Material complementario disponible

El enlace apunta a material asociado, anexos, tablas, datos o página complementaria. No se marca como libro/texto completo.
Abrir material

Resumen

Descripción general del contenido del recurso.

Photonic engineered materials have benefitted in recent years from exciting developments in computational electromagnetics and inverse-design tools. However, a commonly encountered issue is that highly performant and structurally complex functional materials found through inverse-design can lose significant performance upon being fabricated. This work introduces a method using deep learning (DL) to exhaustively analyze how structural issues affect the robustness of metasurface supercells, and we show how systems can be designed to guarantee significantly better performance. Moreover, we show that an exhaustive study of structural error is required to make strong guarantees about the performance of engineered materials. The introduction of DL into the inverse-design process makes this problem tractable, enabling optimization runtimes to be measurable in days rather than months and allowing designers to establish exhaustive metasurface robustness guarantees.

Cómo citar

Elegí el formato que necesitás y copiá la referencia al portapapeles.

APA 7

al, J. R. P. E. (2021). Establishing exhaustive metasurface robustness against fabrication uncertainties through deep learning. https://doi.org/10.1515/nanoph-2021-0428

MLA

al, Jenkins Ronald P. et. "Establishing exhaustive metasurface robustness against fabrication uncertainties through deep learning." 2021. https://doi.org/10.1515/nanoph-2021-0428.

Chicago

al, Jenkins Ronald P. et. 2021. "Establishing exhaustive metasurface robustness against fabrication uncertainties through deep learning.". https://doi.org/10.1515/nanoph-2021-0428.

Harvard

al, J. R. P. E. 2021, Establishing exhaustive metasurface robustness against fabrication uncertainties through deep learning, Wiley, available at: https://doi.org/10.1515/nanoph-2021-0428 [Accessed 8 Aug. 2026].

Compartir e imprimir

Guardá la ficha, copiá su enlace permanente o imprimila como PDF.

Exportar referencia

Si usás un gestor bibliográfico, podés exportar el registro en los formatos más comunes.

Detalles del recurso

Información bibliográfica útil para confirmar que se trata del material correcto.

Título
Establishing exhaustive metasurface robustness against fabrication uncertainties through deep learning
Autor / colaboradores
Jenkins Ronald P. et al
Editorial
Wiley
Año de publicación
2021
ISSN
2192-8614
ISSN
2192-8614
Idioma
Inglés

Materias

Explorá otros recursos relacionados a partir de estas materias.

Copiado