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Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung

Waldbaur, Ansgar · KIT Scientific Publishing

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Author / responsible party
Waldbaur, Ansgar
Publisher
KIT Scientific Publishing
ISBN
9783731501190

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Waldbaur, A. (s. f.). Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung. KIT Scientific Publishing. https://nodovox.com/record.php?id=154728

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Waldbaur, Ansgar. Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung. KIT Scientific Publishing. https://nodovox.com/record.php?id=154728.

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Waldbaur, Ansgar. s. f. Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung. KIT Scientific Publishing. https://nodovox.com/record.php?id=154728.

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Waldbaur, A. s. f, Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung, KIT Scientific Publishing, available at: https://nodovox.com/record.php?id=154728 [Accessed 9 Aug. 2026].

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Title
Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung
Author / contributors
Waldbaur, Ansgar
Publisher
KIT Scientific Publishing
ISBN
9783731501190
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